Semiconductor manufacturing needs nanometer-level motion stability. Hydrostatic rotary tables provide non-contact, vibration-isolated rotation for wafer dicing, grinding, and precision lithography stages.
En semi-conducteurs, une vibration submicronique lors de la découpe de wafers détruit le rendement. Une table hydrostatique isole la rotation sur un film d'huile, supprimant frottement et microvibrations.
La table Marusaku atteint ±0,001 mm avec une raideur élevée — découpe de wafers nette sans éclats.
Sans contact, pas d'usure ni de dilatation, stabilité nanométrique pour salles blanches.
En semi-conducteurs, une vibration submicronique lors de la découpe de wafers détruit le rendement. Une table hydrostatique isole la rotation sur un film d'huile, supprimant frottement et microvibrations.
La table Marusaku atteint ±0,001 mm avec une raideur élevée — découpe de wafers nette sans éclats.
Sans contact, pas d'usure ni de dilatation, stabilité nanométrique pour salles blanches.
