Semiconductor manufacturing needs nanometer-level motion stability. Hydrostatic rotary tables provide non-contact, vibration-isolated rotation for wafer dicing, grinding, and precision lithography stages.
В микроэлектронике даже субмикронная вибрация при резке пластин снижает выход. Гидростатический стол изолирует вращение на масляной плёнке, убирая трение и микровибрации.
Стол Marusaku даёт ±0,001 мм и жёсткость выше роликовых подшипников с отличным демпфированием — ровная резка пластин без дробления.
Без контакта — нет стружки износа и теплового роста, стабильность на нанометровом уровне.
Trong bán dẫn, rung dưới micrôm khi cắt wafer làm hỏng năng suất. Bàn thủy tĩnh cách ly xoay trên màng dầu, loại bỏ ma sát và micro-rung.
Bàn Marusaku đạt ±0,001 mm, độ cứng cao và giảm chấn tốt — cắt wafer phẳng, không vỡ.
Không tiếp xúc nên không mòn, không giãn nhiệt, ổn định nanomet cho phòng sạch.
En semi-conducteurs, une vibration submicronique lors de la découpe de wafers détruit le rendement. Une table hydrostatique isole la rotation sur un film d'huile, supprimant frottement et microvibrations.
La table Marusaku atteint ±0,001 mm avec une raideur élevée — découpe de wafers nette sans éclats.
Sans contact, pas d'usure ni de dilatation, stabilité nanométrique pour salles blanches.
In der Halbleiterfertigung ruinieren schon submikrometer Schwingungen die Ausbeute. Ein hydrostatischer Tisch isoliert die Rotation auf einem Ölfilm und entfernt Reibung sowie Mikrovibrationen.
Der Marusaku-Tisch erreicht ±0,001 mm mit hoher Steifigkeit und Dämpfung — sauberes Wafersägen ohne Ausbrüche.
Kontaktfrei: kein Abrieb, kein Wachstum, nanometerstabile Bewegung für Reinraumprozesse.
In 半导体 manufacturing, even sub-micron 振动 during wafer dicing or backside 磨削 can ruin yield. A 静压转台 isolates rotating element on 加压 油膜, removing contact 摩擦与 micro-vibrations 该 mechanical 轴承 transmit.
丸作精工 转台 reaches 回转定位精度的±0.001 mm采用an 油膜 该带来high 刚度 (far above 滚动 轴承)与excellent 阻尼. For wafer dicing与磨削, 该 means flat, chatter-free cuts与consistent die 质量.
Because film为无接触, there为no wear debris与no thermal growth from 摩擦. 结果为repeatable, nanometer-级 运动 stability suited以cleanroom-adjacent 精度 processes.
![[TEST] Hydrostatic Product Selection Guide](uploads/products/hz_spindle_952.jpg)